1，  ATS-CVD热系列 CVD 应用于石墨烯合成

应用：

纯石墨烯和金属掺杂的石墨烯合成

特点：

小规模量产热CVD设备

经济适用于研发系统

H2, CH4气体泄漏检测

适用于Al, Co, Ni掺杂的金属源系统

基于PLC控制

便于更换石英管道设计

2，  ATS-PVD 多腔室系列，应用在氧化物和金属薄膜的溅射

应用：

金属，陶瓷，合金的沉积，适用于OLED的研发

特点：

多腔室溅射，透明导电氧化物镀膜玻璃 TCO的沉积，有两个腔体和一个手套盒

腔室和手套盒之间的机器手臂传送

晶圆盒和玻璃架子传送

三个可调节的8寸靶材枪和可扩展的靶材枪端口

多层膜的沉积，也可以同时沉积合金

基底可自动旋转，和阴极的距离可调节