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产品详情
ECI 美国
  溶液化学成分分析和监控设备
  
  Chemical Management Systems for Semiconductor, PV, and PCB industries

典型产品:


1QualiLab® CVS Cyclic Voltammetric Stripping(CVS)循环伏安剥离分析式的电镀槽分析

 

应用:

电镀,有机添加剂,无机成分Cu, Ni, Sn, Sn/Pb, Pd, Zn, Co/Ni

化学镀,金属,还原剂,配位剂,缓冲剂,背景离子在Co, Cu, Ni, Pd以及相应溶剂中的化学镀分析

 

特点:

CVS以及快速CVS技术对有机成分的分析

电位滴定对无机成分的分析

副产物的分析

用户友好的界面

TCP/IP通信, Laboratory Information Management System LIMS实验室信息管理系统

 

 

2Quali-Fill 在线化学溶液控制系统

 

应用:

晶圆级封装:Bump, RDL, UBM, Cu Pillar工艺

3DIC: TSV工艺

 

特点:

自动校准验证

和电镀机台无缝连接

支持全部主流电镀液

没有危险排放

 

3, Quali-Surf®   在线湿法工艺化学成分分析系统

 

Applications:

应用:

氮化硅刻蚀(热磷溶液中的硅含量)

有机物移除DSP+, EKC-580

硅刻蚀 TMAH

铝刻蚀H3PO4-HCl

 

特点:

自动校准验证

和电镀机台无缝连接

内置温度控制算法

特有的气泡,分散空气移除控制

多路化学溶液进行分析

 

 

4SERA® (Sequential Electrochemical Reduction Analyzer) 金属氧化层厚度分析仪

 

应用:

金属表面的氧化物和其它重复产物的分析

分析在不同温度,环境下的氧化物机理

特点:

定量分析氧化物和其它类似重复产物

分析铜和银线,直径范围0.8 – 3 mil

对氧化物和硫化物的类型和厚度分析

 

  
产品详情:

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